一种等离子体蚀刻腔室,包括：等离子体源,所述等离子体源设置在所述等离子体蚀刻腔室的上部区域中；以及阴极组件,所述阴极组件设置在所述等离子体源下方,所述阴极组件包括：冷却RF供电的卡盘,所述冷却RF供电的卡盘用于支撑基板载体的背侧的内侧部分；以及冷却RF隔离的支撑件,所述冷却RF隔离的支撑件围绕所述RF供电的卡盘但与所述RF供电的卡盘隔离,所述RF隔离的支撑件用于支撑所述基板载体的所述背侧的外侧部分。