高长径比的光学精加工薄金刚石基材或窗及其制造方法

作者: W-Q·许,C·刘,埃尔金·E·伊斯勒, CNPIM 2018年04月03日

发明人：W-Q·许,C·刘,埃尔金·E·伊斯勒,

专利权人：II-VI有限公司

公开日：2018-04-03

公开号：CN107873063A

专利类别：发明公开

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摘要：在金刚石膜、基材或窗的形成方法中,提供一种硅基材,并且金刚石膜、基材或窗CVD生长在硅该基材的表面。生长的金刚石膜、基材或窗具有≥100的长径比,其中所述长径比是金刚石膜、基材或窗的最大尺寸除以金刚石膜的厚度所得的比值。可任选地从金刚石膜、基材或窗上除去或分离该硅基材。

一种金刚石膜、基材或窗,包括：至少一个光学精加工表面；并且所述金刚石膜、基材或窗的最大尺寸除以所述金刚石膜、基材或窗的厚度所得的长径比≥100。

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