去年，我国芯片遭到美国严厉制裁，许多供货商停止供货，而好不容易崛起的华为也有可能因此没落，但面对制裁，我们从来都不会被动挨打。我国已经意识到自主芯片的严重性，并且开始整合科技公司进行相关研究，包括清华与北大的团队也参与其中。想要造芯片必须得有光刻机，但光刻机也同样受到限制，不过令人欣喜的是，国产光刻机在短时间内就迎来好消息！清华团队宣布研究成果，或将颠覆EUV核心光源！
近日，清华大学相关团队在《自然》杂志上发表了一篇论文，报告了新型离子加速器光源“稳态微聚束”的首个原理验证试验。在此之前我们要明白，所谓光刻机就是以“光”来对芯片进行雕刻。一般越先进的芯片晶体管越多，而想要在一块小小的芯片上雕刻上百亿个晶体管电路，就必须非常细致的光来进行雕刻。而波长越低雕刻得也就越精细，像EUV的光刻机波长仅有头发丝的万分之一，属于极紫外光。
而为了造出更先进的芯片，光刻机的光源也需要不断提高，目前ASML采用13.5纳米的波长光源，功率达到250瓦。但已经难以满足未来芯片的要求，未来的EUV光源很有可能达到千瓦量级。而纵观全世界，还没有哪个国家能在光源上进行革新，但清华团队做到了，光源新技术领先世界！
所谓“稳态微聚束”能提高光源平均功率，并且能将波长控制在更短的范围，一旦这项技术进入实际应运阶段，或能帮助我国打破光刻机关键难题。说不定在未来，荷兰ASML与其他光刻机生产厂商也会来找我们，希望我们提供这项核心技术。到那时，谁垄断谁就不一定了，而清华团队立下了头功，能在短时间内找到突破方向，已经很了不起了，毕竟我们在光刻机与芯片领域相当于一片空白。
而不仅是光刻机终于有突破，芯片也是。科学家曹原近期又在《自然》杂志上发表石墨烯相关论文，代表我国在此领域进一步突破。目前硅基芯片已经发展到极限，碳基芯片很大可能是未来发展趋势，而石墨烯的存在至关重要。我国在相关领域领先世界，如果能将石墨烯运用到芯片上，也是冲破封锁的一个突破口。可能有的人会说，又是光源又是石墨烯的，到底哪个靠谱？